Genomic Prediction of Resistance to Tan Spot, Spot Blotch and Septoria Nodorum Blotch in Synthetic Hexaploid Wheat
利用基因组预测合成六倍体小麦对褐斑病、斑枯病和颖枯病的抗性
期刊:International Journal of Molecular Sciences
影响因子:4.9
doi:10.3390/ijms241310506
García-Barrios, Guillermo; Crossa, José; Cruz-Izquierdo, Serafín; Aguilar-Rincón, Víctor Heber; Sandoval-Islas, J Sergio; Corona-Torres, Tarsicio; Lozano-Ramírez, Nerida; Dreisigacker, Susanne; He, Xinyao; Singh, Pawan Kumar; Pacheco-Gil, Rosa Angela
