日期 影响因子
日期:
2020 年 — 2026 年
2020
2021
2022
2023
2024
2025
2026
影响因子:
–

Influence of C(2)H(2) Flow Rates on Optical Properties, Surface Roughness, and Residual Stress of Ti/WC Thin Films Deposited on Glass Substrates

C(2)H(2)流量对沉积在玻璃基板上的Ti/WC薄膜的光学性质、表面粗糙度和残余应力的影响

期刊:Materials
影响因子:3.2
doi:10.3390/ma18061269
Tien, Chuen-Lin; Wang, Yi-Lin; Chang, Yuan-Ming; Lin, Shih-Chin; Wang, Ching-Chiun
发表日期：2025
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Performance Improvement of TiO(2) Ultraviolet Photodetectors by Using Atomic Layer Deposited Al(2)O(3) Passivation Layer

利用原子层沉积Al₂O₃钝化层提高TiO₂紫外光电探测器的性能

期刊:Micromachines
影响因子:3
doi:10.3390/mi15111402
Yang, Yao-Tsung; Lin, Shih-Chin; Wang, Ching-Chiun; Ho, Ying-Rong; Chen, Jian-Zhi; Huang, Jung-Jie
发表日期：2024
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Fabrication of Aluminum Oxide Thin-Film Devices Based on Atomic Layer Deposition and Pulsed Discrete Feed Method

基于原子层沉积和脉冲离散进给法的氧化铝薄膜器件制备

期刊:Micromachines
影响因子:3
doi:10.3390/mi14020279
Lin, Shih-Chin; Wang, Ching-Chiun; Tien, Chuen-Lin; Tung, Fu-Ching; Wang, Hsuan-Fu; Lai, Shih-Hsiang
发表日期：2023
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