日期 影响因子
日期:
2020 年 — 2026 年
2020
2021
2022
2023
2024
2025
2026
影响因子:
–

Multimetal Doping and Heterostructure Engineering of RuO(2) for Durable and Efficient Oxygen Evolution

通过多金属掺杂和异质结构工程调控RuO(2)实现持久高效的析氧反应

期刊:Small Science
影响因子:8.3
doi:10.1002/smsc.202500546
Mofakkharulhashan, Md; Wang, Shiqi; Santos, Hugo L S; Chundak, Mykhailo; Ritala, Mikko; Camargo, Pedro H C
信号转导
发表日期：2026
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Plasmon-Enhanced CO(2) Methanation over Au@Ru/TiO(2) via Nanoscale Control of Ru Shell Thickness

通过纳米尺度控制Ru壳层厚度实现Au@Ru/TiO2催化剂上的等离子体增强CO2甲烷化反应

期刊:Angewandte Chemie-International Edition
影响因子:16.9
doi:10.1002/anie.202518748
Rathmann, Florian; Abdelsalam, IbrahiM; Wang, Shiqi; Kubik, Maja M; Frindy, Sana; Alves, Tiago V; Chundak, Mykhailo; Ritala, Mikko; Reznichenko, Alexander; Reinikainen, Matti; Camargo, Pedro H C
CO2
发表日期：2025
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Plasmonically Enhanced Hydrogen Evolution on Anisotropic AuPt Nanowires with Submonolayer Pt Surface Coverage

等离子体增强各向异性AuPt纳米线上亚单层Pt表面覆盖率的析氢反应

期刊:Small
影响因子:12.1
doi:10.1002/smll.202510990
Abdelsalam, IbrahiM; Wang, Shiqi; Santos, Hugo L S; Kitching, Ella; Pakala, Pranava; Chundak, Mykhailo; Ritala, Mikko; Haigh, Sarah J; Slater, Thomas J A; Camargo, Pedro H C
发表日期：2025
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Earth-Abundant W(18)O(49) Coupled with Minimal Pt for Enhanced Hydrogen Evolution under Dark and Visible Light Conditions

储量丰富的 W(18)O(49) 与少量 Pt 结合，可在黑暗和可见光条件下增强析氢反应。

期刊:ACS Applied Materials & Interfaces
影响因子:8.2
doi:10.1021/acsami.4c22952
Santos, Hugo L S; Mofakkharulhashan, Md; Wang, Shiqi; Formo, Eric V; Chundak, Mykhailo; Ritala, Mikko; Huo, Wenyi; Camargo, Pedro H C
发表日期：2025
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Atomic Layer Deposition of Superconductive Niobium Carbonitride Thin Films

超导碳氮化铌薄膜的原子层沉积

期刊:Chemistry of Materials
影响因子:7
doi:10.1021/acs.chemmater.5c01456
Ruiz Kärkkäinen, Paloma; Vihervaara, Anton; Hatanpää, Timo; Kohopää, Katja; Heikkilä, Mikko J; Marín-Suárez, Marco; Grigoras, Kestutis; Mizohata, Kenichiro; Popov, Georgi; Chundak, Mykhailo; Kemppinen, Antti; Putkonen, Matti; Ritala, Mikko
发表日期：2025
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Atomic Layer Deposition of AgX (X = Cl, Br, I) Thin Films

AgX（X = Cl、Br、I）薄膜的原子层沉积

期刊:ACS Omega
影响因子:4.3
doi:10.1021/acsomega.5c06913
Heidari, Aida; Popov, Georgi; Hatanpää, Timo; Weiß, Alexander; Chundak, Mykhailo; Mizohata, Kenichiro; Ritala, Mikko; Kemell, Marianna
发表日期：2025
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Pinacolborane as a Reducing Agent in the Atomic Layer Deposition of Copper and Bismuth

频哪醇硼烷作为铜和铋原子层沉积中的还原剂

期刊:ACS Omega
影响因子:4.3
doi:10.1021/acsomega.5c07715
Vihervaara, Anton; Hatanpää, Timo; Mizohata, Kenichiro; Chundak, Mykhailo; Ritala, Mikko
发表日期：2025
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Atomic Layer Deposition of Ti (x) Fe(2-x) O(3) Photoanodes and Photocurrent Response Optimization Using the Response Surface Methodology

采用原子层沉积法制备Ti(x)Fe(2-x)O(3)光阳极，并利用响应面法优化光电流响应

期刊:ACS Omega
影响因子:4.3
doi:10.1021/acsomega.5c01360
Deb, Anjan; Vihervaara, Anton; Popov, Georgi; Chundak, Mykhailo; Abdelaal, Ahmed O; Santos, Hugo L S; Heikkilä, Mikko J; Kemell, Marianna; Camargo, Pedro H C; Ritala, Mikko; Putkonen, Matti
发表日期：2025
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Au@AuPd Core-Alloyed Shell Nanoparticles for Enhanced Electrocatalytic Activity and Selectivity under Visible Light Excitation

Au@AuPd 核合金壳纳米粒子在可见光激发下增强电催化活性和选择性

期刊:ACS Nano
影响因子:15.8
doi:10.1021/acsnano.4c07076
Kaline N da Silva, Shwetha Shetty, Sam Sullivan Allsop, Rongsheng Cai, Shiqi Wang, Jhon Quiroz, Mykhailo Chundak, Hugo L S Dos Santos, IbrahiM Abdelsalam, Freddy E Oropeza, Víctor A de la Peña O'Shea, Niko Heikkinen, Elton Sitta, Tiago V Alves, Mikko Ritala, Wenyi Huo, Thomas J A Slater, Sarah J Hai
信号转导
发表日期：2024
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Reductive Thermal Atomic Layer Deposition Process for Gold

用于金的还原热原子层沉积工艺

期刊:ACS Materials Au
影响因子:6.5
doi:10.1021/acsmaterialsau.2c00075
Vihervaara, Anton; Hatanpää, Timo; Nieminen, Heta-Elisa; Mizohata, Kenichiro; Chundak, Mykhailo; Ritala, Mikko
发表日期：2023
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