日期 影响因子
日期:
2020 年 — 2026 年
2020
2021
2022
2023
2024
2025
2026
影响因子:
–

Reactive Radical Etching of Quartz by Microwave Activated CH(4)/H(2) Plasmas Promotes Gas Phase Nanoparticle Formation

微波活化CH(4)/H(2)等离子体对石英进行反应性自由基刻蚀，促进气相纳米颗粒的形成

期刊:Journal of Physical Chemistry A
影响因子:2.8
doi:10.1021/acs.jpca.4c05787
Ashfold, Michael N R; Curchod, Basile F E; Hollas, Daniel; Ma, Jie; Mankelevich, Yuri A
发表日期：2024
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N-Doped Carbon NanoWalls for Power Sources

用于电源的氮掺杂碳纳米墙

期刊:Scientific Reports
影响因子:3.9
doi:10.1038/s41598-019-43001-3
Evlashin, Stanislav A; Maksimov, Yurii M; Dyakonov, Pavel V; Pilevsky, Andrey A; Maslakov, Konstantin I; Mankelevich, Yuri A; Voronina, Ekaterina N; Vavilov, Sergei V; Pavlov, Alexander A; Zenova, Elena V; Akhatov, Iskander S; Suetin, Nikolay V
发表日期：2019
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Damage-free plasma etching of porous organo-silicate low-k using micro-capillary condensation above -50 °C

利用微毛细管凝聚法在-50℃以上对多孔有机硅酸盐低介电常数材料进行无损伤等离子体刻蚀

期刊:Scientific Reports
影响因子:3.9
doi:10.1038/s41598-018-20099-5
Chanson, R; Zhang, L; Naumov, S; Mankelevich, Yu A; Tillocher, T; Lefaucheux, P; Dussart, R; Gendt, S De; Marneffe, J-F de
发表日期：2018
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