日期:
2020 年 — 2026 年
2020
2021
2022
2023
2024
2025
2026
影响因子:

Chemically tailored block copolymers for highly reliable sub-10-nm patterns by directed self-assembly

通过定向自组装化学定制嵌段共聚物,实现高可靠性的 10 纳米以下图案

Shinsuke Maekawa, Takehiro Seshimo, Takahiro Dazai, Kazufumi Sato, Kan Hatakeyama-Sato, Yuta Nabae, Teruaki Hayakawa