日期 影响因子
日期:
2020 年 — 2026 年
2020
2021
2022
2023
2024
2025
2026
影响因子:
–

Atomically Precise Manufacturing of Silicon Electronics

硅电子器件的原子级精确制造

期刊:ACS Nano
影响因子:16
doi:10.1021/acsnano.3c10412
Pitters, Jason; Croshaw, Jeremiah; Achal, Roshan; Livadaru, Lucian; Ng, Samuel; Lupoiu, Robert; Chutora, Taras; Huff, Taleana; Walus, Konrad; Wolkow, Robert A
发表日期：2024
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Lithography for robust and editable atomic-scale silicon devices and memories

用于制造稳健且可编辑的原子级硅器件和存储器的光刻技术

期刊:Nature Communications
影响因子:15.7
doi:10.1038/s41467-018-05171-y
Achal, Roshan; Rashidi, Mohammad; Croshaw, Jeremiah; Churchill, David; Taucer, Marco; Huff, Taleana; Cloutier, Martin; Pitters, Jason; Wolkow, Robert A
发表日期：2018
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