日期 影响因子
日期:
2020 年 — 2026 年
2020
2021
2022
2023
2024
2025
2026
影响因子:
–

Manipulation of the Superhydrophobicity of Plasma-Etched Polymer Nanostructures

等离子体刻蚀聚合物纳米结构超疏水性的调控

期刊:Micromachines
影响因子:3
doi:10.3390/mi9060304
Du, Ke; Jiang, Youhua; Liu, Yuyang; Wathuthanthri, Ishan; Choi, Chang-Hwan
信号转导
发表日期：2018
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Stencil Lithography for Scalable Micro- and Nanomanufacturing

用于可扩展微纳制造的模板光刻技术

期刊:Molecules
影响因子:4.6
doi:10.3390/molecules21040497
Kaga, Sadik; Arslan, Mehmet; Sanyal, Rana; Sanyal, Amitav; Du, Ke; Ding, Junjun; Liu, Yuyang; Wathuthanthri, Ishan; Choi, Chang-Hwan
发表日期：2017
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Stencil Lithography for Scalable Micro- and Nanomanufacturing

用于可扩展微纳制造的模板光刻技术

期刊:Membranes
影响因子:3.6
doi:10.3390/membranes8040119
Nikbakht Fini, Mahdi; Soroush, Sepideh; Montazer-Rahmati, Mohammad Mehdi; Du, Ke; Ding, Junjun; Liu, Yuyang; Wathuthanthri, Ishan; Choi, Chang-Hwan
发表日期：2017
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The Rise of Scalable Micro/Nanopatterning

可扩展微/纳米图案化的兴起

期刊:Micromachines
影响因子:3
doi:10.3390/mi8090275
Du, Ke; Wathuthanthri, Ishan; Choi, Chang-Hwan
发表日期：2017
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